报告人：Prof. Bernd Szyszka（德国柏林理工大学）
时 间：2019年9月24日（星期二上午9:00）
地 点：重庆大学虎溪校区理科楼物理学院LE523
邀请人：方亮
报告摘要：
主要介绍透明导电薄膜(ITO、ZnO、SnO2等)的制备新技术(如空阴极气流溅射、旋转靶溅射)、及这些氧化物薄膜在光伏、生物传感、透明电子学、Low-E玻璃、工业防护涂层等方面的应用新进展。
报告人介绍：
Bernd Szyszka教授是德国柏林理工大学（Technishe Universität Berlin，Germany）电子工程与计算机科学系、高频与半导体系统技术研究院双聘教授、薄膜器件技术的主任与主席。1999年在德国吉森大学(Justus Liebig Universität Giessen)获得博士学位；2002到2012年在德国夫琅和费(Fraunhofer)表面工程与薄膜研究所工作，担任大面积涂层部主任；2012年到德国柏林理工大学担任教授、薄膜器件中心主席。目前共发表学术论文130余篇，综述1篇，书3本。(简历详见：https://www.tfd.tu-berlin.de/menue/ mitarbeiter/ berndszyszka/ lebenslauf/)
